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本发明提供一种进气装置以及半导体加工设备，其包括多路进气通道以及通过进气通道向反应腔室提供反应气体的进气管，多路进气通道位于反应腔室的一侧，且相对于反应腔室在水平方向上均匀排布；每路进气通道包括相互串接的进气口和出气口，进气口与进气管连接；...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。