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本申请公开了一种离子注入设备，该设备包括真空腔和快门控制器，还包括设置在真空腔内的离子发射装置、靶室和快门装置，离子发射装置用于发射离子流对靶室内的材料进行离子注入，快门装置在快门控制器的控制下打开或关闭，以控制离子流的注入量，由于快门装置...
该专利属于中国科学技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学技术大学授权不得商用。

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