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本发明提供一种AMOLED显示器件的制作方法及其结构。该AMOLED显示器件的制作方法通过在制作栅极(3)之前沉积一层无机膜，并进行等离子轰击处理，形成栅极防反层(2)，以及在制作源/漏极(71)与数据线(72)之前沉积一层无机膜，并进行等...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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