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本发明提供一种化学机械抛光组合物及一种利用该化学机械抛光组合物以化学-机械方式抛光基板的方法。该抛光组合物包括：(a)研磨剂颗粒，其中该研磨剂颗粒包括氧化锆，(b)至少一种金属离子氧化剂，其中该至少一种金属离子氧化剂包括Co3+、Au+、A...
该专利属于嘉柏微电子材料股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉柏微电子材料股份公司授权不得商用。

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