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本发明提供一种极紫外光刻光源-掩模优化方法，本方法分别应用参数化和像素化光源，并将掩模主体图形和辅助图形分别构造为若干单边尺寸大于或等于预定阈值的基本模块的叠加，将优化目标函数构造为成像保真度函数与光源及掩模罚函数之和；之后本方法基于标量成...
该专利属于北京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京理工大学授权不得商用。

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