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本实用新型公开了一种双罐式VD炉操作平台结构，操作平台水平设置于两个真空罐灌口高度位置，操作平台上还设置有真空罐盖车，真空罐盖车下方的滚轮配合安装在位于两个真空罐外侧平行设置的真空罐盖车导轨上，其特征在于，所述操作平台整体呈T形，其较宽的一...
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