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本发明涉及显示器制备技术领域，公开了一种气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少了背板上阴影效应的现象的发生。气相沉积设备，包括：真空腔室，位于真空腔室内的背板、位于背板上方的金属掩膜以及用于支撑背板的基座，金属掩膜上设有抗等离子体涂布层...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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