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本发明的目的是提供保存稳定性、特别是严酷的条件(高温高湿条件)下的保存稳定性优异的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其含有基材和具有由下述化学式(1)所示的化学组成、且满足下述数学式1及数学式2的关系的含硅膜。SiOxNyMz···(1...
该专利属于柯尼卡美能达株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过柯尼卡美能达株式会社授权不得商用。

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