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本发明公开了还原低温基底上的薄膜的方法，具体地涉及在基底上制造导电薄膜的方法，所述方法包括：将还原剂和金属氧化物沉积在薄膜上；和使所述薄膜在环境气氛中暴露于单脉冲电磁发射，以使所述还原剂首先与所述金属氧化物通过氧化还原反应进行化学反应形成金...
该专利属于NCC纳诺责任有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过NCC纳诺责任有限公司授权不得商用。

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