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本发明克服了现有技术存在的不足，提供了一种能提高产品的良率、有效去除光阻的方法；为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种有效去除光阻的方法，按以下步骤实施：第一步：将需去除光阻的晶片置于去光阻液中浸泡30min～60min；第二步...
该专利属于山西南烨立碁光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过山西南烨立碁光电有限公司授权不得商用。

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