专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
威特尔有限公司
>
等离子体装置和基板处理装置制造方法及图纸
>技术资料下载
下载等离子体装置和基板处理装置的技术资料
文档序号:11989606
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供了一种等离子体产生装置。所述等离子体产生装置包括:外围介电管,所述外围介电管围绕着距腔室的顶面的中心具有恒定半径的圆周以固定的间隔布置;外围天线,所述外围天线被布置为围绕所述外围介电管;上部磁体,所述上部磁体与所述外围介电管垂直地...
该专利属于威特尔有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过威特尔有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。