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本实用新型涉及一种真空热压陶瓷基片烧结炉，包括炉体以及炉体内的活动烧结室，该活动烧结室与炉体为分体式结构；所述活动烧结室一侧上安装有与炉体配合的门，该活动烧结室由一驱动机构驱动其远离或进入炉体内；所述驱动机构包括一铺设在炉体外并延伸至炉体的...
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