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本发明提供一种阵列基板结构及其制作方法，通过在形成公共电极(91)后，沉积第二绝缘层(83)前，在公共电极(91)上形成一抗还原层(82)，避免了在公共电极(91)上直接沉积第二绝缘层(83)的过程中，产生的还原性气氛改变公共电极(91)的...该专利属于深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司;武汉华星光电技术有限公司授权不得商用。