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层积膜制造技术
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文档序号:11762564
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本发明目的在于提供一种使静电容量增大的层积膜。本发明提供的层积膜中第一电极层、树脂基材、第二电极层以及电介质层依次层积,其特征在于,所述电介质层含有偏氟乙烯/四氟乙烯共聚物(A),所述共聚物(A)中,偏氟乙烯/四氟乙烯的比例为97/3~60...
该专利属于大金工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过大金工业株式会社授权不得商用。
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