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本发明提供了一种等离子体处理腔室的清洁方法，其中，通过等离子体处理腔室的气体喷淋头向腔室内部通入清洁气体，然后施加射频能量将清洁气体激发成等离子体对腔室内部进行清洁，在所述等离子体处理腔室的冷却气体供应管道内持续供应冷却气体至清洁结束。本发...
该专利属于中微半导体设备（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中微半导体设备（上海）有限公司授权不得商用。

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