专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
杭州华为数字技术有限公司
>
金属掺杂锗碲基阻变存储材料及制备方法和阻变单元器件技术
>技术资料下载
下载金属掺杂锗碲基阻变存储材料及制备方法和阻变单元器件的技术资料
文档序号:11662912
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明实施例提供了一种金属掺杂锗碲基阻变存储材料,分子式为MxGeyTez,其中0<x≤20,35≤y≤55,z=100-x-y,M为Ag、Al、Au、Ti、W、Ta、Fe或Mn,其中金属M的掺杂提高了锗碲基阻变存储材料的晶化温度从而...
该专利属于杭州华为数字技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过杭州华为数字技术有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。