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本发明涉及利用等离子体用于处理物体(3)的系统(1)，包括：包括将待处理的物体置于其上的支撑部的真空处理室(10)；至少两个子组件(21，22)，每个子组件包括至少一个能够产生等离子体的等离子体源(210，220)，并对其提供射频功率Pi和...
该专利属于南欧普拉斯公司所有，仅供学习研究参考，未经过南欧普拉斯公司授权不得商用。

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