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本实用新型涉及一种气体样品刻度标准源，包括盒体、上盖、标准溶液及刻度源基质，其特殊之处在于：所述盒体及上盖构成一个密封腔体，所述密封腔体的几何尺寸及材料与待测气体样品源盒相同，所述标准溶液和刻度源基质位于盒体内；所述刻度源基质为可发性聚苯乙...
该专利属于北京放射性核素实验室所有，仅供学习研究参考，未经过北京放射性核素实验室授权不得商用。

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