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本实用新型公开一种用于半导体设备的排气装置，属于半导体设备技术领域，包括可连接在工艺腔体上的压力控制器，压力控制器的另一端装有排气管(3)，排气管上装有用于抽气的高真空泵和低真空泵，高真空泵、低真空泵的一侧分别设有用于控制气体流动的阀门，还...
该专利属于徐州同鑫光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过徐州同鑫光电科技有限公司授权不得商用。

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