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本发明公开了一种激光退火设备，其光路中除原有的激光器、扩束准直光路元件、匀光器和聚焦镜头等常规光学组件外，还在扩束准直光路元件和匀光器之间安装了一片以上偏振光片。本发明还公开了利用上述激光退火设备改善硅片表面粗糙度的方法，该方法在激光器输出...
该专利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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