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提供一种热处理设备，其包含：工艺腔室，其中具有衬底处理空间；平台，其安置在工艺腔室中以允许将衬底放置在其上，平台在工艺进行方向上水平地转移；光源，其安置在工艺腔室外部以输出光，光源经配置以将光照射到装载到工艺腔室中的衬底上；以及气体注射模块...
该专利属于AP系统股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过AP系统股份有限公司授权不得商用。

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