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本发明公开了一种光刻胶厚胶坚膜方法，该方法包括：将光刻胶依次进行多次温度递增的升温处理和保温处理，使所述光刻胶从室温升至65-75℃，并进行降温处理，所述升温处理、所述保温处理和所述降温处理的总时间和为2h。本发明由于采用了梯度升温的方式对...
该专利属于中国电子科技集团公司第十一研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第十一研究所授权不得商用。

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