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带有沟槽‑氧化物‑纳米管超级结的器件结构及制备方法技术
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下载带有沟槽‑氧化物‑纳米管超级结的器件结构及制备方法的技术资料
文档序号:11319713
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本发明提出了一种沉积在第一导电类型的半导体衬底上的半导体功率器件。该半导体衬底承载着一个第二导电类型的外延层,其中半导体功率器件就位于超级结结构上。该超级结结构包含从外延层中的顶面上打开的多个沟槽;其中每个沟槽的沟槽侧壁都用第一导电类型的第...
该专利属于万国半导体股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过万国半导体股份有限公司授权不得商用。
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