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一种射频磁控溅射制备ITO薄膜的方法及ITO薄膜，包括如下步骤：1）制备粉末靶材：先将ITO粉体注入到模具中，铺平，封闭模具后压制成型；2）将步骤1）制备好的靶材和具有导热性能的基片置于真空溅射腔室内；3）将通入氧气和氩气流量比调整为0.1...
该专利属于庞凤梅;徐国华;罗永城所有，仅供学习研究参考，未经过庞凤梅;徐国华;罗永城授权不得商用。

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