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本发明涉及基板处理方法和基板处理装置，提供在尽量不使用大型设备下就能够在蚀刻处理的同时更高效地再生出可返回至该蚀刻处理的磷酸的基板处理装置。基板处理装置利用含有磷酸的蚀刻液对形成有氮化膜的硅制基板W进行处理，该基板处理装置的构成中具有：蚀刻...
该专利属于芝浦机械电子装置股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芝浦机械电子装置股份有限公司授权不得商用。

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