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一种磁控溅射在镁合金上制氮化钛膜的方法技术
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文档序号:11296614
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本发明是一种磁控溅射在镁合金上制氮化钛膜的方法,所述方法包括溅射前处理、安装基片和溅射成膜过程。与现有技术相比,本发明通过磁控溅射工艺实现了在镁合金表面制备氮化钛薄膜的目的,通过所摸索的工艺条件可制得厚度为0.2~6μm的氮化钛薄膜,且所获...
该专利属于无锡慧明电子科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡慧明电子科技有限公司授权不得商用。
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