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本实用新型涉及一种在玻璃基板上沉积形成半导体薄膜的装置，包括一真空沉积腔（1）以及气相沉积器（2），气相沉积器（2）包括一坩锅（21）、多孔透气膜（22）以及进料分配器（23）；其特征在于：气相沉积器（2）还包括一致密外壳（24），该致密外...该专利属于中建材光电装备（太仓）有限公司;中国建材国际工程集团有限公司;蚌埠玻璃工业设计研究院所有，仅供学习研究参考，未经过中建材光电装备（太仓）有限公司;中国建材国际工程集团有限公司;蚌埠玻璃工业设计研究院授权不得商用。