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一种采用CSD工艺制备肖特基二极管P+型扩散保护环的方法技术
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一种采用CSD工艺制备肖特基二极管P+型扩散保护环的方法,步骤包括旋转涂覆:在通过刻蚀制作好保护环P+沟槽后的晶圆上,使用旋转涂覆法使晶圆上覆盖一层带有硼掺杂剂的B30液态源并烘干,涂覆厚度在3000~6000埃;预扩散在氮气气氛高温炉中预...
该专利属于扬州国宇电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过扬州国宇电子有限公司授权不得商用。
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