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检查方法及设备、光刻系统以及器件制造方法技术方案
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文档序号:11238646
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一种检查方法确定了衬底图案的轮廓参数的值。制造具有基准图案目标(BP)的基准衬底,其具有由例如CD(中间临界尺寸)、SWA(侧壁角)和RH(抗蚀剂高度)等轮廓参数所描述的轮廓。散射量测用于获得来自第一和第二目标的第一和第二信号。微分图案轮廓...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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