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本发明公开了新型重氮基苯并噻喃酮类光敏保护基及合成方法，本发明提供的化合物能够对磷酸官能团化合物的保护，新型苯并噻喃酮类光敏保护基光解离反应高效迅速，且在日常光照条件下具有良好的相对稳定性，且具有独特的既对光响应又能释放潜在荧光基团的光敏结...
该专利属于天津理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过天津理工大学授权不得商用。

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