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本发明提供了一种刻蚀终点检测方法，在具有射频电源适配器的刻蚀反应腔中进行，其在刻蚀过程中采用适配器来进行终点检测，包括以下步骤：将衬底放入刻蚀反应腔中，并采用适配器的参数来监测刻蚀反应腔内的阻抗；对衬底进行刻蚀工艺；适配器的参数发生突变，停...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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