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提供一种基板处理设备。该基板处理设备包括处理容器，所述处理容器具有开口的上部；基板加热单元，所述基板加热单元在支撑基板时，加热设置在所述处理容器中的所述基板；以及处理溶液供应单元，所述处理溶液供应单元将处理溶液供应到设置在所述基板加热单元上...
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