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设备(AS)测量在光刻衬底(W)上的标记(202)的位置。照射装置(940、962、964)从至少第一和第二区域提供离轴辐射。第一和第二源区域相对于光轴(O)在直径上彼此相对并且限定在角范围内。区域可以是根据被测量的标记的周期性方向而选择的...该专利属于ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司授权不得商用。