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本发明涉及显示技术领域，公开了一种过孔制作方法、阵列基板制作方法及阵列基板、显示装置，用以防止在制作过孔时形成倒角，以提高产品质量并改善显示装置的显示效果。所述过孔制作方法，包括：采用第一刻蚀工艺对电极上方需要形成过孔的区域的顶层膜层进行部...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。