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本发明提供一种与以往相比能够抑制所形成的薄膜在长条膜基材的宽度方向上发生品质偏差的薄膜形成装置。使用于供给成膜用的气体的气体供给部件(100、200)构成为具有沿膜基材(16)的宽度方向排列设置在真空室(12)内的多个气体供给部(120A、...
该专利属于日东电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日东电工株式会社授权不得商用。

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