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西藏雪莲花吸附剂及其用于吸附稀土离子制造技术
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文档序号:10893117
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本发明公开了西藏雪莲花吸附剂及其应用。其制备方法为:用去离子水清洗雪莲花花身3-4次,去掉表面的粉尘和泥土;将清洗后的材料分别浸入1MHNO3、0.1~4MNaOH、1MH3PO4、10%甲醛、40%(v/v)乙醇和10%H2O2,保持固液...
该专利属于武汉大学所有,仅供学习研究参考,未经过武汉大学授权不得商用。
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