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本实用新型涉及原子层沉积设备。一种原子层沉积设备包括：传送室(110)；分别与传送室连通的预清洗室(134)、热处理室(138)、加载闭锁室(140)、以及多个反应室(121、122、123)；与加载闭锁室连通的前端模块(150)；传送室中...
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