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本实用新型的基片处理的控制设备，包括处理装置、分别与所述处理装置接应的第一传送机构及第二传送机构。所述第一传送机构用于将待加热的基片组传送至所述处理装置。所述处理装置包括若干加热装置，所述加热装置用于定时接收待加热的所述基片组并进行加热，所...
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