温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及半导体缺陷检测领域，具体涉及一种光罩图形缺陷检测系统及方法，本发明给新产品的研发过程增加一种检测由光罩图形设计弱点和工艺窗口不足所导致的系统缺陷的手段，可有效降低目前由于扫描机台可能未能发现某些系统缺陷所造成的风险，从而提升新产品...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。