下载具有等离子体限制间隙的处理配件的技术资料

文档序号:10746082

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在此提供用于处理基板的设备。在一些实施方式中,一种设备包括处理配件,所述处理配件包括挡板,所述挡板具有配置成围绕第一容积的一个或更多个侧壁,所述第一容积设置在工艺腔室的内容积内;以及第一环,所述第一环可移动地介于第一位置与第二位置之间,在第...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。

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