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包含抑制剂的无空隙亚微米结构填充用金属电镀组合物制造技术
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下载包含抑制剂的无空隙亚微米结构填充用金属电镀组合物的技术资料
文档序号:10739636
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本发明涉及一种包含金属离子源和至少一种抑制剂的组合物,所述抑制剂可通过使a)包含活性氨官能团的胺化合物与b)氧化乙烯与至少一种选自C3和C4氧化烯的化合物的混合物反应而获得,所述抑制剂具有6000g/mol或更高的分子量Mw。...
该专利属于巴斯夫欧洲公司所有,仅供学习研究参考,未经过巴斯夫欧洲公司授权不得商用。
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