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本发明公开了一种清洗设备颗粒监控的方法，包括如下步骤：步骤S1、提供一晶圆，并将所述晶圆划分为若干面积均等且间隔分布的第一区域和第二区域；步骤S2、于所述第一区域注入正电荷离子，并于所述第二区域注入负电荷离子；步骤S3、将离子注入后的晶圆浸...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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