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本实用新型提供一种用于提高磁控溅射镀膜靶材利用率的靶材，靶材主体采用多段组合式结构，组合后的主体顶部设有下凹的溅射槽，溅射槽的溅射面中部沿主体长度方向凸起，使溅射面横截面呈W状，主体下端设有凹或凸的定位槽。本实用新型与现有平面结构型的溅射面...
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