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光刻用共聚物及其制造方法、抗蚀剂组合物以及基板的制造方法技术
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文档序号:10660348
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一种光刻用共聚物,具有含有酸离去基团的单体单元和不含酸离去基团的单体单元,将在通过GPC得到的洗脱曲线中显示出共聚物涉及的色谱峰的洗脱液,按照洗脱顺序,分成体积均等的5个组分,其中,将最先洗脱的第1个至第4个的各组分中所含有的共聚物中的含有...
该专利属于三菱丽阳株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三菱丽阳株式会社授权不得商用。
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