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形成用于场板形成的阶梯式电介质的方法技术
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下载形成用于场板形成的阶梯式电介质的方法的技术资料
文档序号:10602038
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一种半导体器件(100)形成有在至少三个相继区域(104)(106)(108)和(110)上的阶梯式场板(134),其中该阶梯式场板之下的每个区域中的总电介质厚度与前一区域相比至少厚10%。每个区域中的总电介质厚度是一致的。该阶梯式场板被形...
该专利属于德克萨斯仪器股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过德克萨斯仪器股份有限公司授权不得商用。
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