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本实用新型提供一种适应性耦合等离子刻蚀机，其至少包括：具有反应空间并在反应空间中产生等离子体的反应腔、设置于所述反应腔中且用于支撑所述晶圆的下电极、设置于所述反应腔上部中心区域的衬套、以及从所述衬套螺旋地延伸形成的凸面线圈组件；所述衬套与一...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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