温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种多区域气体流量控制装置，应用于半导体设备中，所述半导体设备包括腔体，所述腔体内置有上电极和与所述上电极相对的下电极；所述多区域气体流量控制装置包括：流量控制器、管道、多个输入管，所述流量控制器与所述管道连接，所述管道与多...
该专利属于上海和辉光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海和辉光电有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。