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本实用新型提供一种化学机械抛光修整器，所述化学机械抛光修整器至少包括：圆盘衬底、隔离带和设置于所述圆盘衬底上的磨料颗粒；所述圆盘衬底具有中心区域；所述隔离带从所述中心区域延伸至圆盘衬底的边缘；所述隔离带将圆盘衬底等分，每条隔离带两侧的圆盘衬...
该专利属于中芯国际集成电路制造（北京）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（北京）有限公司授权不得商用。

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