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本发明提供一种在通过邻近蒸镀进行的蒸镀中、能够利用传感器检测成膜速率的蒸镀用坩埚、蒸镀装置以及蒸镀方法。本发明的坩埚具有：收容部，其用于收容蒸镀源；第1引导通路，其用于将自蒸镀源放出的气化材料朝向被处理基板引导；壁部，其用于划分第1引导通路...
该专利属于日东电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日东电工株式会社授权不得商用。

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