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手动CMP设备抛光机的改进装置，涉及晶片加工的装置，本实用新型为了解决现有CMP设备的抛光机在使用过程中主要依赖于手动操作所产生的生产效率低、晶片加工一致性差的问题，本实用新型还包括自动开关、一号、二号、三号、四号自动上升选择开关、喷淋计时...
该专利属于大庆佳昌晶能信息材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过大庆佳昌晶能信息材料有限公司授权不得商用。

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